GB/T 16524-1996《光掩模对准标记规范》
Specification for registration marks for photomasks
标准类型：国家标准
标准属性：推荐性
标准状态：现行
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国家标准《光掩模对准标记规范》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC4（全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分会）执行，主管部门为国家标准委。
主要起草单位中国科学院微电子中心。
基础信息
标准号：GB/T 16524-1996发布日期：1996-09-09实施日期：1997-05-01标准类别：基础中国标准分类号：L95国际标准分类号：31.200 归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分会主管部门：国家标准委
采标情况
本标准等效采用其他国际标准：SEMI P6:1988。采标中文名称:。
起草单位
中国科学院微电子中心
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